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Belo Horizonte, 19 de Fevereiro de 2014.
Aos
Senhores Licitantes,
REF.: PROCESSO LICITATÓRIO CONCORRÊNCIA INTERNACIONAL SENAI N.º 002/2014 –
Aquisição, treinamento e instalação de equipamentos (Deposição de filmes por Magnetron Sputtering;
Deposição de filmes finos High Power Impulse Magnetro Sputerring – HiPIMS; Unidade de Limpeza por
Ultrassom; Nitretação a Plasma; Deposição de filmes finos por sistema de feixe de plasma – PECVD – e
erosão por arco catódico – CAE) para implantação do Instituto SENAI de Inovação – ISI – em
Engenharia de Superfícies, localizado na Av. José Cândido da Silveira, n.º 2.000, Bairro Horto Florestal,
em Belo Horizonte - MG.
A Comissão Permanente de Licitação Integrada – COPERLI, representando neste ato o Serviço Nacional
de Aprendizagem Industrial – SENAI – Departamento Regional de Minas Gerais, considerando o
recebimento de questionamentos enviados por empresa licitante, vem transcrever e esclarecer,
conforme a seguir:
QUESTIONAMENTO 01: Aplicação básica dos equipamentos, a saber:
a) Deposição de filmes por Magnetron Sputtering.
RESPOSTA: Como o equipamento deve permitir nitretação iônica, o seu uso será para
recobrimentos de filmes de óxidos, nitretos e carbetos, assim como realizar a nitretação do
metal base da amostra.
b) Deposição de filmes finos por HiPMIS.
RESPOSTA: Depositar recobrimentos duros, tais como os DLCs - diamond like carbon.
c) Nitretação a Plasma.
RESPOSTA: Realizar nitretação de aços carbono, ligas, materiais sinterizados, podendo,
inclusive, ser combinada com carburização e oxidação.
d) Deposição de filmes finos por PECVD e erosão por arco catódico (CAE).
RESPOSTA: Depositar recobrimentos duros, tais como os DLCs - diamond like carbon.
QUESTIONAMENTO 02: Dúvidas referente ao Magnetron Sputtering Sistema:
a) Qual é o tamanho dos alvos magnetron?
RESPOSTA: Os alvos devem apresentar uma altura superior à 180mm para garantir a
deposição mínima de 180mm de altura da peça (altura útil), ou seja, a câmara de deposição
deve ser no formato hexagonal e os alvos devem ser colocados um em cada face do hexágono.
Portanto, a forma e tamanho do alvo deve permitir que sejam depositadas amostras com altura
de no mínimo 180mm.
a.1) Qual(is) os materiais a serem utilizados nos alvos?
RESPOSTA: O equipamento deve ser bastante versátil quanto ao material permitido para uso
nos alvos, sendo a finalidade do equipamento para uso em pesquisa e desenvolvimento. A
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principio, serão utilizados metais puros, óxidos, nitretos, grafite, carbetos. Como o equipamento
terá finalidade de pesquisa, é fundamental que este seja o mais flexível possível.
b) Quantas amostras por satélites?
RESPOSTA: Isto vai depender do tamanho da amostra, sendo este o fator decisivo para se
determinar quantas amostras por satélite, mas os satélites podem ter 30 alças ou garras para
prender amostras.
c) O que é o tamanho e forma das amostras?
RESPOSTA: As amostras terão tamanho e forma variados, portanto o equipamento deve ser
construído no formato hexagonal para permitir o uso para diferentes formatos de amostras.
Serão utilizadas amostras de peças de geometrias complexas e chapas. Portanto, a altura
máxima de uma única amostra deve atingir a altura mínima requerida (180mm de altura útil).
d) A câmara deve ter altura da região útil acima de 180mm e possuir janela de observação do
processo. Eu não entendo este ponto.
RESPOSTA: Como a câmara é em formato hexagonal, foi determinado que a altura interna da
câmara que permite deposição, ou seja, altura da amostra que será recoberta pelo
equipamento, deve ser de no mínimo 180mm. Portanto, os alvos devem ser capazes de recobrir
uma amostra de no mínimo 180mm de altura. A janela de observação é uma janela de vidro
colocada em uma das faces da câmara de deposição que permite a visualização do processo de
deposição.
e) Automação: grau de automação – favor dar maiores detalhes.
RESPOSTA: O equipamento deve possuir sistema de abertura e fechamento da câmara
automatizado, assim como controles de proteção do equipamento: sobrecarga das fontes,
superaquecimento da câmara ou magnetrons e sistema de alimentação de energia de
emergência para que o resfriamento do equipamento não seja interrompido no caso de queda
de energia elétrica (o sistema de geradores de energia será de responsabilidade nossa, sendo
requerido que o equipamento possua um sistema que permita o uso da energia dos geradores
em caso de falha do fornecimento de energia da rede).
O equipamento deve permitir operação remota, ou seja, o total controle do equipamento deve
ser permitido por computadores remotos ao equipamento. O equipamento deve permitir a
elaboração de rotinas de processo de deposição, o sistema de automação do equipamento deve
permitir fazer um programa de execução do processo de deposição, onde serão previamente
estabelecidos:
Os tempos de etching e deposição de filmes,
A potência de deposição que será utilizada no processo,
Ajustes de largura do pulso
Controle da rotação do carrossel e seus satélites, rotação do satélite é independente em
relação ao carrossel.
f) Em relação ao fornecimento de energia de plasma, que o cliente realmente quer mínimo uma fonte
de alimentação de 5kW?
RESPOSTA: São requeridos, no mínimo, 2 alvos de sputtering, sendo uma fonte por alvo. Duas
fonte, cada fonte deve ter no mínimo 5kW de potência. A câmara deve permitir a instalação
futura de no mínimo mais dois alvos.
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f.1) É uma fonte de alimentação de DC?
RESPOSTA: Sim, a fonte de alimentação é DC.
f.2) Por exemplo, com um alvo magnetron de 2” usamos uma fonte de alimentação de 500w. Este
poder é mais do que suficiente, um poder superior pode danificar o magnetron.
Resposta: Devido ao tamanho do alvo e os variados tipos de materiais que serão empregados
na deposição, a potência de 5kW da fonte é necessária. Para tanto, um sistema de refrigeração
eficiente dos magnetrons é requerido.
g) Em relação ao BIAS, é que o cliente quer RF ou DC?
RESPOSTA: O BIAS requerido é DC.
QUESTIONAMENTO 03: Duvidas referentes ao sistema HiPIMS.
a) Mesmas questões item 2, letras a, b, c, d, e, f e g acima.
RESPOSTA: A resposta dada no item 2 para cada questionamento é valida para o HiPIMS,
sendo o equipamento de mesma dimensão que o Magnetron sputtering
b) Com relação a fonte de geração de plasma para sputtering, favor confirmar se realmente precisa
mínimo de 4 kW de força?
RESPOSTA: Sim, como referido anteriormente no Magnetron Sputtering, os alvos possuem
dimensões em torno de 220x120mm e o material dos alvos é variado. Portanto é preciso uma
fonte desta potência, um sistema de refrigeração eficiente dos alvos é necessário.
c) Essa fonte seria DC?
RESPOSTA: Sim, a fonte é DC.
QUESTIONAMENTO 04: Depois de analisar detalhadamente as especificações técnicas completas
(Anexo 1), encontramos várias divergências dos componentes comuns disponíveis no mercado. Como
exemplo: fontes de alimentação nas suas capacidades máximas em combinação com tensão máxima,
mas também a posição de transdutores ou a posição dos dispositivos automatizados de abertura das
portas do equipamento.
Pergunta geral: são permitidos desvios na especificação técnica do
equipamento? Se forem permitidos, como devem ser mencionados nos documentos finais?
RESPOSTA: As especificações dadas às fontes dizem quais são os valores limites que
precisamos para trabalho. Por exemplo:
Fontes com corrente ajustável de no mínimo 15A;
Alcançar uma "tensão máxima" acima de 850V, sendo a tensão ajustável de 0 a 850V.
As fontes devem possuir capacidade de geração de corrente de no minimo 15A não
restringindo fontes que alcancem correntes maiores, mas vetando fontes com correntes
abaixo de 15A. O mesmo vale para a tensão do equipamento, é requerido que a fonte
alcance uma tensão máxima de "no minimo" 850V e esta tensão deve ser regulável de 0 até
a tensão máxima, no caso 850V. Portanto, fontes com tensão igual ou superior a 850V
serão aceitas.
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O posicionamento dos transdutores e dos dispositivos automatizados de abertura do
aparelho devem ser especificados pelo fornecedor.
QUESTIONAMENTO 05: Depois de analisar a minuta do contrato de fornecimento (Anexo 4),
encontramos várias cláusulas que estão em desacordo com a política de nossa empresa. Podem estas
divergência ser negociadas, e como isto deve ser feito?
RESPOSTA: O item 7.5 do edital estabelece que “A apresentação da proposta pressupõe o
conhecimento e aceitação, pelo licitante, das exigências / condições deste edital, não
cabendo qualquer alegação futura em contrário.” Dessa forma, toda e qualquer alteração a
ser efetuada na Minuta do Contrato deve ser realizada antes da apresentação e abertura das
propostas comerciais. Essas possíveis alterações serão devidamente publicadas pela
COPERLI, de modo que todos os interessados tenham acesso às informações.
Na oportunidade, a COPERLI decide PRORROGAR o prazo para entrega dos envelopes de habilitação
e proposta comercial, bem como o prazo para abertura dos envelopes de habilitação, descritos
respectivamente nos itens 3.1 e 4.1 do edital, de acordo com os dados descritos abaixo:
3. NOVA DATA PARA ENTREGA DOS ENVELOPES DE HABILITAÇÃO E PROPOSTA
COMERCIAL
3.1
Os envelopes contendo os documentos de habilitação e proposta comercial, deverão ser
entregues na Recepção da COPERLI (setor de protocolo), localizada na Av. do Contorno,
n.º 4.520, 5.º andar, Bairro Funcionários, CEP 30110-916, em Belo Horizonte – MG., até às
14:00 horas do dia 21 de MARÇO de 2014.
4. NOVA DATA PARA ABERTURA DOS ENVELOPES DE HABILITAÇÃO
4.1
Os envelopes contendo a documentação de habilitação serão abertos, em sessão
pública a realizar-se no dia 21/03/2014, às 14:00 horas, na Secretaria da COPERLI,
localizada na Av. do Contorno, n.º 4.520, 5.º andar, Bairro Funcionários, CEP 30110-916, em
Belo Horizonte – MG., após a identificação dos representantes presentes (credenciamento), nos
termos do item 2 do Edital.
OBSERVAÇÃO: Os demais itens e condições do edital permanecem inalterados.
Atenciosamente,
Anderson Viana da Silva
Membro da COPERLI
Vinicius Diniz e Almeida Ramos
Presidente da COPERLI
